UV光束分析儀

UV激光光束質(zhì)量分析儀可實(shí)現(xiàn)高分辨率實(shí)時(shí)空間光束的監(jiān)測(cè)、定量表征與強(qiáng)度分布。主要針對(duì)準(zhǔn)分子激光器設(shè)計(jì)，用于所有脈沖或連續(xù)波激光器以及非相干光源，檢測(cè)器CCD芯片上量子轉(zhuǎn)換涂層保證了UV檢測(cè)的高靈敏度。

主要特點(diǎn)

        UV光束特性分析

                ‐ 準(zhǔn)分子激光器 @193nm, 248nm, 351nm

                ‐ 固體激光器 @355nm, 266nm, 213nm

                ‐ UV LEDs, UV/VUV lamps

        寬光譜靈敏度：VUV ‐ DUV ‐ Vis ‐ NIR

        實(shí)時(shí)光學(xué)調(diào)節(jié)

        基于ISO光束參數(shù)測(cè)量

        衰減單元（可選）

Homogenized KrF

excimer laser (248nm)

Mask projection of

excimer laser beam

主要技術(shù)規(guī)格

        波長范圍~100nm …1100nm

            （<~320nm:高線性和穩(wěn)定性的量子轉(zhuǎn)換涂層；<190nm: N2/ Ar purging required）

        視場(chǎng)尺寸：20mmX14mm（其他尺寸可選）

        相機(jī)：CMOS 4MPixel, 12 Bit, USB3.0

        幀率：up to 15fps

        曝光時(shí)間：20us to 1s

        衰減單元：棱鏡衰減器（因子1000：1）

                         中性密度濾片

Near‐field and far‐field

profile of ArF excimer laser

(193nm), indicating 2nd

moment beam widths

Beam profile of

misaligned 355nm laser

Beam Analysis software

光束測(cè)試軟件

測(cè)試基于ISO標(biāo)準(zhǔn)